材料純度與雜質
金屬熔煉過程中若含有非金屬雜質（如氧化物、硫化物等），冷卻后會在表面形成微坑或點蝕，破壞鏡面平整度。例如，鋼材中的硬脆氧化物在拋光時會被拉出，形成缺陷。
冷卻過程與內(nèi)應力
金屬熔融后若冷卻速度過快或溫度梯度不均，會導致內(nèi)部應力殘留，表面產(chǎn)生微裂紋或變形。例如，不銹鋼因熱膨脹系數(shù)較高，冷卻后更易因溫差導致形變。
表面處理工藝不足
拋光技術不當：機械拋光中壓力過大或時間過長會導致“橘皮”現(xiàn)象（表面不規(guī)則粗糙），尤其是軟質金屬更易發(fā)生拋光過度。
缺乏精密加工：傳統(tǒng)磨削難以消除硬質相與基體的硬度差異，表面易出現(xiàn)孔隙或劃痕。
鍍層工藝限制
若需通過鍍層實現(xiàn)鏡面效果（如PVD電鍍），金屬基材的清潔度、真空環(huán)境控制以及鍍膜均勻性至關重要。例如，小米6亮銀版因四曲面玻璃導致鍍膜厚度不均，良品率極低。
優(yōu)化材料純度與熔煉工藝
提純原料：使用高純度金屬或添加脫氧劑（如鋁、硅）減少雜質含量，避免表面缺陷。
控制熔煉環(huán)境：采用惰性氣體保護熔煉爐，防止氧化和雜質混入。
改進冷卻與退火工藝
緩慢冷卻：通過梯度降溫減少內(nèi)應力，例如鋼結硬質合金需退火處理以消除殘余應力。
退火溫度控制：將退火溫度設定為低于材料回火溫度25℃左右，確保組織穩(wěn)定性。
精密表面處理技術
ELID鏡面磨削：采用在線電解修整（ELID）技術配合超細金剛石砂輪，可顯著降低表面粗糙度至納米級（Ra≈10 nm）。
多級拋光策略：從粗砂逐步過渡到細砂（如1000#至3000#砂紙），避免一次性高壓拋光導致橘皮。
鍍層工藝升級
真空電鍍（PVD）：在無塵真空環(huán)境中沉積納米級金屬顆粒，形成均勻鍍層。需注意曲面設計對鍍膜均勻性的影響。
復合鍍層技術：如華為nova 2 Plus采用“不銹鋼+鋁合金”雙金屬真空復合，結合離子蒸鍍保護層，兼顧鏡面效果與耐用性。
輔助工藝優(yōu)化
防氧化處理：對易氧化金屬（如鋁合金）鍍覆保護膜（如SiO?或CrN），延長鏡面壽命。
應力檢測：使用X射線衍射或超聲波檢測內(nèi)應力分布，針對性調(diào)整工藝參數(shù)
